PVD物理气相沉积采用低电压大电流的电弧放电技术，通过荷能粒子的轰击，将其吸引并沉积到工件表面形成3~5um的超硬薄膜层。利用PVD法可在工件表面沉积类金刚石dlc、氮化钛TiN、氮化铬CrN、DLC、TiAIN等单层多层复合涂层。

离子束DLC:碳氢气体在离子源中被离化成等离子体，在电磁场的共同作用下，离子源释放出碳离子。离子束能量通过调整加在等离子体上的电压来控制。碳氢离子束被引到基片上，沉积速度与离子电流密度成正比。星弧涂层的离子束源采用高电压，因而离子能量更大，使得薄膜与基片结合力很好;离子电流更大，使得DLC 膜的沉积速度更快。

DLC膜层是一种由碳元素构成的类似钻石的碳薄膜，具有优异的硬度、耐磨性和化学稳定性。在许多领域中，DLC膜层被广泛应用于减摩、润滑、防腐蚀等方面。然而，热膨胀是 DLC膜层应用过程中需要考虑的一个重要因素。

由于DLC膜层中含有较高比例的碳元素，其热膨胀系数通常较低。这是因为碳元素的原子半径较小，原子间的结合力较强，使得DLC层在温度变化下的膨胀程度较小。此外，DLC膜层中还可能掺杂其他元素，如氢、氮、硅等，这些元素的加入会对膨胀系数产生一定的影响。

DLC膜层参数

1.硬度极高(超过Hv2000-Hv4500):代表耐性极好;

2.摩擦系数低(DLC=0.04):改善拉伸五金冲压、成型的润滑问题;

3.耐高温(最高达到350℃):不容易氧化，改善干切削和压铸成型问题;化学屏障/导热率低:可有效防止因高温导致硬质合金刀具的钻元素流失:改善压铸出现的热龟裂问题;

4.厚度可控制在1-5微米以内:涂层后不影响产品的最终尺寸