DLC薄膜通常是由sp2（石墨）和sp3（金刚石）相的混合物组成。DLC膜对钢的摩擦系数一般在0.05-0.10之间，而膜硬度和sp3含量可以根据具体应用而定制。含金属和氢的DLC(Me-DLC或a-C:H:Me)在1800-2800HV范围内，而四面体非晶碳(ta-C)在4000-8000HV范围内。

但其耐磨性能不能满足寿命要求，如何提高钛合金花键表面的耐磨性？引用了主要有碳基涂层(如类金刚石DLC)，DLC涂层采用磁控溅射与PECVD相结合的方式，沉积DLC2(a-C:H）涂层和DLC（ta-c）涂层。DLC的硬度在2500HV，摩擦系数0.04，DLC涂层的硬度高达6000HV，摩擦系数0.1，利用DLC真空镀膜技术在花键轴表面沉积硬质耐磨涂层是解决钛合金花键表面耐磨性能不足的有效途径之一。

目前涂层种类非常丰富，由于类金刚石碳DLC具有与金刚石相似的高硬度和优越的机械性能，同时也具备低摩擦系数和良好的化学惰性。DLC镀膜应用涵盖了刀具和模具的表面硬化处理，集成电路的绝缘层与保护层，医疗器械的生物相容性涂层，以及发动机部件的减摩处理等，因为应用非常广泛，得到了市场热捧。

东莞纳隆纳米涂层为DLC/PVD真空镀的生产、研发、集销售为一体的高新科技生产加工型企业，可完成你所需要的单层及复合涂层，纳隆是引入德国涂层技术企业，本公司的技术早已克服了目前国内很多研究机构及涂层厂商的DLC无法工业化的瓶颈，纳隆公司的高性能膜层主要提升工件耐磨、耐浸蚀/防磨损、摩擦系数低、耐腐蚀、导电等性能。主营涂层种类：DLC, TiN氮化钛,TiAlN, CrN,TiCN,AlCrN,TisiN等，目前解决半导体行业的陶瓷件可采用氮化钛涂层以及CrN涂层实现陶瓷件的导电性能。

氮化铝钛(TiAlN)由于铬（Cr）元素的引入，使得氮碳化铝钛(TIAlN)的内应力明显减少,耐冲击性能提升。同时涂层表面缺陷明显减少，耐温性也同时提高。AlCrN涂层具有优良的热稳定性和耐腐蚀性，高硬度，高耐磨，高耐温，低摩擦系数等，最高耐热温度可以达到1000℃，而且涂层的硬度也有所提高，最高可达3500HV。特别适用于高速干切削及高硬切削。针对铝压铸模， AlCrN涂层能够有效减少常见的腐蚀性和黏料情况。

DLC(类金刚石)涂层是一种较为常见的PVD涂层，和金刚石几乎拥有一样的特性。由于其具有高硬度和高弹性模量、低摩擦因数、耐磨损以及良好的真空摩擦学特性，很适合于作为耐磨涂层，因而其在众多有耐磨性以及硬度要求的零件上得到广泛应用。DLC工艺温度通常在200摄氏度左右，甚至更低，（目前我们纳隆最低可以在85度做真空电镀），能够处理大多数的汽车零件，DLC涂层细腻光滑，自润滑性好，摩擦系数通常在0.1以下;硬度高，通常在Hv2200以上;尤其适合涂覆在汽车零件表面，承受频繁持续的高强度摩擦磨损，起到提高零件使用性能、延长使用寿命的作用;另外，DLC最高可耐受350摄氏度，且耐腐蚀性好、化学稳定性高、结构致密能够胜任发动机的内部温度和工作环境。

DLC 薄膜制备技术的研究开始于七十年代。1971年成功地利用碳离子束沉积出DLC薄膜以来，离子束沉积法是开始用于制备 DLC膜。其后研究者发现了一系列生成DLC薄膜的办法。大多数能够在气相中沉积的薄膜材料也能在液相中通过电化学方法合成，反之亦然。给DLC薄膜的制备带来了新的思路，现在除了常见的化学气相沉积和物理气相沉积(PVD)， 也可以通过液相的电化学沉积来制备DLC膜。

 DLC涂层具有一定的导电性能，但其导电性相对较差。DLC涂层的导电性主要取决于涂层内部的碳元素结构和配比，以及涂层的制备工艺。它是由非晶态碳组成，具有一定数量的杂质和缺陷，这些杂质和缺陷会影响涂层的导电性能。一般来说，DLC涂层的导电性能介于绝缘体和导体之间，DLC涂层的导电性能可以通过调整涂层的碳元素结构、控制杂质含量和选择适当的制备工艺等方法来进行调节和改善。