类金刚石薄膜(DLC)由于具有优良的光电和力学特性在工业上具有广泛的应用前景近年来DLC膜在许多方面已得到了工业化应用如在切削刀具自动化机械零部件等的表面涂层处理上。但是DLC膜的一个致命弱点是内部应力很高使得薄膜的附着力特性较差、不易厚膜化从而极大地限制了它的应用范围。为了改善硬质薄膜特别是DLC薄膜的附着力特性，最近人们将目光投向了纳米多层膜的研究上此法如果能优化多层膜的调制周期、各涂层种类等，可以兼顾内应力缓解与薄膜高硬度等特性，目前我司DLC加工厂开始引入Ti掺杂对磁控溅射类金刚石(DLC)。

Ti掺杂对磁控溅射类金刚石(DLC)薄膜附着力及硬度会有什么影响？

采用纳米划痕仪和显微硬度计分析测试了薄膜的附着力和硬度。研究表明金属T的掺杂有利于DLC薄膜附着力特性的改善但对硬度有一定的影响。Ti应力缓和层的导入进一步改善了 T-DLC薄膜的附着力特性使其达到或超过了TIN薄膜的水平对于附着力的改善T应力缓和层存在最佳的厚度值采用特殊的变周期多层结构设计即在应力集中的膜基界面附近采用较小的调制周期薄膜顶层附近采用较大的调制周期不但可以保持足够的附着力还可维持Ti-DLC薄膜原有的硬度。

应力缓和层对应力的缓解作用与层数,厚度及软层/硬层厚度的相对比等间存在着密切的关系。多层薄膜的附着力缓和层的Ti/ TDLC/ TiDLC.特性发现对于具有层厚应力缓和层的 TiDLC多层膜其附着力结果有较大的差别，这说明应力缓和层具有最合适的厚度，太薄其相对滑动”不能发挥最大的应力缓和作用,太厚也不一定有利于附着力的提高。