物理气相沉积(PVD) 是一种薄膜制备技术,可在真空条件下将材料源(固体或液体)表面物理汽化成气态原子、分子或部分电离成离子。然后,通过低压气体(或等离子体)在基板表面沉积具有特定功能的膜。物理气相沉积的主要方法有真空蒸镀、溅射沉积、电弧等离子镀、离子镀等。PVD薄膜沉积速度快、附着力强、衍射性能好、应用范围广。
DLC主要采用PVD或PACVD工艺,在100℃~300℃的温度下合成,具有良好的耐磨性、润滑性,且具有电气绝缘、化学稳定性和光透性。镀膜可覆盖铁或非铁金属及塑料、陶瓷。主要碳素涂层根据氢含量和原子间的结合构造分为DLC(a-C:H)、ta-C和Diamond涂层。
那么PVD涂层与DLC涂层有哪些区别呢?今天纳隆小编就从三个维度为大家分析。
2. 涂层硬度不同:PVD涂层硬度大多在1000-4000HV之间,DLC涂层硬度一般为2000HV-9000HV以上,具有更好的耐磨性、抗腐蚀性和润滑性。
3.膜层的特性有所不同,PVD镀膜后的膜层,具有耐磨损,耐腐蚀,颜色亮丽多样,导电、绝缘等特性,DCL(膜层和PVD镀膜相比,DLC膜层的硬度更高,摩擦系数更低,更耐腐蚀,环保且抗粘附性更好。
4.用途有所不同,PVD镀膜广泛应用于数码产品、饰品、手表、智能穿戴产品、医疗器械、半导体、消费类电子产品等领域,而DLC广泛应用于机械功能领域,比如钻头、铣刀、模具及其辅助模具、剪刀、轴承、等领域。
5.涂层制备方法不同,PVD镀: PVD镀的方法有,真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜,及分子束外延等,DLC: DLC的方法有真空蒸发、溅射、等离子体辅助化学气相沉积、离子注入等。
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